在大会报告环节，首先由邓海教授作第一开场报告，其介绍了关于ArF光刻胶以及高速图形化材料的研发成果。随后，中科院上海有机所的沈其龙研究员介绍了ArF光刻胶的关键材料以及相关技术，中科院上海有机所的吴永明研究员介绍了氟化工产品在集成电路产业中的应用。接下来，上海华力微电子有限公司的曹永峰总监、中科院上海微系统所的李卫民研究员和宋三年研究员围绕晶圆制造中的关键材料研发进行了学术报告。上海微电子公司的朱岳彬经理和中科院上海硅酸盐所的刘学建研究员和姜大朋副研究员围绕光刻机核心材料的研制进行了学术报告和探讨。