5nm快速DSA材料

图1 5nm快速DSA材料

5nm快速DSA工艺

图2 5nm快速DSA工艺

DSA光刻工艺

图3 DSA光刻工艺

新型器件

图4 新型器件示意图

研究方向

1. 90nm～10nm节点高端半导体光刻材料的研究和开发
2. 探索Moore’s Law的材料极限，研发下一代10～5nm分辨率的光刻材料DSA
3. 研究DSA的图像化工艺和plasma刻蚀工艺
4. 新型纳米材料、纳米器件的设计和合成；极性单体序列可控聚合方法的研究